אחריות על פיתוח ויישום תהליכי ליטוגרפיה ופבריקציה ננומטרית, הכוללת:
- פיתוח תהליכי ליטוגרפיה בקרן אלקטרונים כולל שימוש בתוכנות מתקדמות (electron beam lithography)
- ביצוע עבודות כתיבה בקרן אלקטרונים.
- הדרכת סטודנטים בכתיבה בקרן אלקטרונים.
- רכש, פיתוח, ותחזוקה של מערכת ליטוגרפיה בקרן אלקטרונים
- פיתוח תהליכי ליטוגרפיה בקרן לייזר, ביצוע עבודות כתיבה והדרכת סטודנטים.
- פיתוח תהליכי ליטוגרפיה אופטית, ביצוע עבודות כתיבה והדרכת סטודנטים.
- אחריות כוללת על תהליכי פבריקציה ננומטרית, כולל מערכות עיכול ודפוזיציה של מתכות וחומרים דיאלקטריים
- אחריות כוללת על אינטגרציה של כלל תהליכי ננופבריקציה
- עבודת צוות עם מהנדסים, טכנאים, סטודנטים ומדענים.
דרישות:
- השכלה אקדמית - תואר שני או שלישי בתחומי פיסיקה, כימיה או חומרים.
- ניסיון מוכח של שלוש שנים לפחות בפיתוח תהליכי ליטוגרפיה בקרן אלקטרונים.
- ניסיון מוכח בתהליכי ליטוגרפיה אופטית.
- ניסיון מוכח בתהליכי ננופבריקציה. המשרה מיועדת לנשים וגברים כאחד.